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品質(zhì)是生命,服務是宗旨

Quality is life, service is the tenet

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PECVD

更新時間:  2025-01-14

產(chǎn)品型號:  

產(chǎn)品報價:  

所  在  地:  合肥市新站區(qū)穎河路22號

產(chǎn)品特點:  PECVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時,可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。

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產(chǎn)品概述
  PECVD化學氣相沉積設備質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時,可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。
 
  工作溫度:5~45?C
 
  zui大壓力:3x106 Pa
 
  精度: ±1.5% FS
 
  線性:±(0.5-1.5)%F.S
 
  重復精度: ±0.2%F.S.
 
  流量范圍:
 
  一路:1~199 SCCM
 
  二路:1~499 SCCM
 
  PECVD注意:其他流量范圍的可定制,需額外費用
 
  化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質(zhì)子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一款實驗室常用設備技術(shù)參數(shù)
 

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