二維材料制備設備爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。其結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程，透明石英管腔體可直觀的看到樣品燒結狀態。爐管工件橫穿與進口電阻絲的爐膛，溫場均勻，內外溫差可控制在正負3度，滑軌爐設計可是樣品快速升溫或降溫。預熱的裝置可以很好控制固態源的蒸發，可用于二維材料的制備等，是一款性價比*的快速升降溫爐。

立式高溫淬火爐如圖所示，集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，用于催化劑焙燒，方便催化劑裝填和轉移。

真空氣氛管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。

催化反應爐LFT1200C300D10 III爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護，其結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，設備配有觀察窗口，透明石英管腔體可直觀的觀察到內部工作狀態，配合氣路，等離子體等實驗條件，可用于CO?還原、催化合成氨及氨分解等反應。是一款性價比高的快速升降溫爐。

立式淬火爐 LFT1500C 50D30 OP如圖所示，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件。該設備設計為立式結構，樣品由吊絲固定,真空腔室上端配有電磁鐵固定吊絲,可在真空條件下完成淬火工作。

1700系列單溫區真空提拉爐設備為真空或者氣氛保護條件下的晶體生長設備，樣品處理位于剛玉管內，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波紋管和真空旋轉接頭與電機相連?？蓾M足樣品在真空或者氣氛條件下的旋轉和提拉。

金屬管回轉爐LFT1200C800D200IIR設備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長。該旋轉管式爐，具備在持續通入氣體的條件下，爐管可被旋轉加熱，并保證氣體不泄露。

煅燒爐LFT1200C Ф40如圖所示，集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優質硅碳棒。